Fano resonance in heavily doped porous silicon

Y. A. Pusep, A. D. Rodrigues, L. J. Borrero-González, L. N. Acquaroli, R. Urteaga, R. D. Arce, R. R. Koropecki, M. Tirado, D. Comedi

Producción científica: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

5 Citas (Scopus)

Resumen

Unexpectedly, the Fano resonance caused by the interference of continuum electron excitations with the longitudinal optical (LO) phonons was observed in random porous Si by Raman scattering. The analysis of the experimental data shows that the electron states trapped at the Si-SiO2 interface dominate in the observed Raman scattering. The gap energy associated with the interface states was determined.

Idioma originalInglés
Páginas (desde-hasta)1405-1407
Número de páginas3
PublicaciónJournal of Raman Spectroscopy
Volumen42
N.º6
DOI
EstadoPublicada - jun. 2011
Publicado de forma externa

Citar esto